作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-07-07
真空鍍膜技術我們都不陌生，真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
真空鍍膜電源：
1、設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件(法蘭、密封圈等)的結構形式，應符合GB/T6070的規(guī)定。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。
3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱
4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。
5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。
6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。
7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。
8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。
9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4、4、6
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
