作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-11-06
電源工作模式是中頻磁控濺射沉積過程中的重要參數(shù)，它直接影響著沉積速率的大小。在中頻磁控濺射沉積過程中，電源工作模式可以分為直流模式和脈沖模式兩種。直流模式下，電源會(huì)持續(xù)地提供恒定的電壓和電流，使靶材表面的離子在磁場(chǎng)的作用下被加速并擊打到基板上，從而實(shí)現(xiàn)沉積。這種模式下，由于電源的穩(wěn)定輸出，沉積速率相對(duì)較為穩(wěn)定。而在脈沖模式下，電源會(huì)周期性地改變電壓和電流的輸出，即電源會(huì)以一個(gè)固定的頻率不斷切換工作狀態(tài)，使得離子的能量也會(huì)產(chǎn)生周期性的變化。這種模式下，沉積速率會(huì)有所增加，并且由于能量的擾動(dòng)，沉積層的均勻性可能會(huì)有所降低。因此，在實(shí)際應(yīng)用中，根據(jù)具體的需求選擇合適的電源工作模式對(duì)于獲得理想的沉積速率和沉積層質(zhì)量非常重要。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
