作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2025-03-04
中頻磁控濺射電源是一種用于磁控濺射鍍膜技術(shù)的高性能電源設(shè)備，廣泛應(yīng)用于真空鍍膜、光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。其核心特點是采用中頻磁控濺射電源（通常為40kHz）交流輸出，能夠有效抑制靶材弧光放電和表面中毒問題，適用于反應(yīng)濺射和高質(zhì)量薄膜的制備。以下是關(guān)于中頻磁控濺射電源的詳細介紹：
一、核心特點
電弧抑制：
中頻磁控濺射電源使靶材在正負電壓交替工作，減少電荷積累，有效抑制弧光放電，避免薄膜缺陷。
高質(zhì)量鍍膜：
適用于反應(yīng)濺射（如氧化物、氮化物薄膜），能夠提高膜層的均勻性和附著力。
高效節(jié)能：
采用IGBT高頻開關(guān)技術(shù)，效率可達90%以上，比傳統(tǒng)可控硅電源節(jié)能40%左右。
多種工作模式：
支持恒流、恒壓、恒功率模式，滿足不同工藝需求。
智能化操作：
配備觸摸屏，光纖、RS485/RS232通訊接口，支持PLC和上位機控制，實現(xiàn)自動化生產(chǎn)。
參數(shù)項 | 典型值/范圍 | 備注 |
輸入電壓 | AC380V±10%，50~60Hz | 三相四線制 |
輸出功率 | 1KW-120KW | 可根據(jù)需求定制 |
輸出頻率 | 20-40kHz | 準(zhǔn)正弦波/方波/正弦波輸出 |
輸出電壓 | 100V-800V/1KV（工作電壓），空載電壓>1KV | 對稱靶，適用于多種靶材，可根據(jù)需求定制 |
冷卻方式 | 水冷+風(fēng)冷 | 需配備冷卻水塔或工業(yè)冷水機 |
調(diào)節(jié)精度 | ≤1% | 高精度控制 |
效率 | ≥90% | 高效節(jié)能 |
通訊接口 | RS485/RS232，光纖 | 支持遠程監(jiān)控和自動化控制 |
滅弧時間 | ≤3μs | 快速抑制電弧 |
二、應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)鍍膜：
用于制備增透膜、反射膜、濾光膜等，如Low-E玻璃、光伏玻璃、建筑幕墻。
半導(dǎo)體制造：
沉積絕緣層、導(dǎo)電層及功能性薄膜等。
工具涂層：
鍍制TiN、CrN、TiAlN等超硬涂層，提高工具耐磨性。
裝飾鍍膜：
用于手機殼、手表等3C表面裝飾性鍍膜。
三、選型建議
功率選擇：
根據(jù)鍍膜設(shè)備規(guī)模和工藝需求選擇合適的功率范圍（如1KW-120KW）。
控制方式：
如需自動化生產(chǎn)，優(yōu)先選擇支持光纖、RS485/PLC控制的型號。
冷卻系統(tǒng)：
確保配備合適的水冷系統(tǒng)（水溫≤25℃，水壓≥0.2MPa）。
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