HiPIMS電源（Hipims，High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射電源）是一種現(xiàn)代化的電源系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于薄膜沉積、材料處理等領(lǐng)域，特別是在對薄膜質(zhì)量要求較高的高端制造領(lǐng)域。HiPIMS電源通過采用脈沖電流模式，提供比傳統(tǒng)連續(xù)電源更高的濺射功率，從而提升沉積速率、改善薄膜質(zhì)量，并優(yōu)化整體沉積過程。

 HiPIMS電源的特點

1.高功率脈沖輸出  

- 峰值功率可達(dá)兆瓦級（MW），但脈沖持續(xù)時間極短（幾十微秒至毫秒），平均功率較低。

- 通過短時高能脈沖產(chǎn)生高密度等離子體，使濺射材料高度離化。

2.脈沖調(diào)制能力  

- 精確控制脈沖頻率（Hz至kHz）、脈寬、占空比等參數(shù)，優(yōu)化薄膜生長過程。

3.高電壓/高電流  

- 輸出電壓可達(dá)數(shù)千伏，電流數(shù)百安培，確保高離化率（可達(dá)80%以上）。

4.穩(wěn)定性與重復(fù)性

- 需在極端脈沖條件下保持穩(wěn)定，確保薄膜均勻性和工藝重復(fù)性。

與傳統(tǒng)磁控濺射電源的區(qū)別

HiPIMS電源的核心技術(shù)挑戰(zhàn)

1.脈沖波形控制  

- 需實現(xiàn)陡峭的上升/下降沿，避免電弧放電。

2.散熱設(shè)計  

- 高功率脈沖對電源散熱要求極高。

3.匹配網(wǎng)絡(luò)  

- 優(yōu)化阻抗匹配，減少反射功率，提高能量傳輸效率。

典型應(yīng)用領(lǐng)域

- 工具涂層：切削工具、模具的超硬涂層（如TiAlN、CrN）。

- 光學(xué)薄膜：高反射率/抗反射涂層。

- 半導(dǎo)體：銅互連阻擋層（Ta/TaN）。

- 新能源：鋰離子電池電極薄膜、燃料電池催化劑涂層。

 選型建議

- 匹配靶材：根據(jù)靶材（金屬、陶瓷）選擇電壓/電流范圍。

- 工藝需求：脈沖參數(shù)（頻率、脈寬）需適配薄膜類型（如DLC需要極高離能）。

- 擴(kuò)展性：支持多靶協(xié)同濺射或與其他技術(shù)（如PECVD）集成。

  如果需要更具體的電源參數(shù)或應(yīng)用案例，請咨詢本公司銷售人員。

深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958