作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-04-27
在濺射鍍膜工藝中我們常見的有中頻磁控濺射電源、直流磁控濺射電源、偏壓脈沖電源、弧電源，簡單原理是利用高電壓電離出來的Ar離子轟擊靶材，使得靶材原子濺射出來并沉積在基片上。這個過程一般會在靶材后加磁場來提高濺射效率，這就叫磁控濺射。單極性脈沖磁控濺射電源是直流磁控電源的升級產(chǎn)品，在穩(wěn)定性、抑弧方面、產(chǎn)品亮度都有了進一步更大的提升。
該電源可應用于單極性磁控濺射靶材、金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜等領域，它采用了先進的高頻開關電源技術，使用最新開關器件，具有恒流輸出特性和良好的適應性。 主要特點：采用多功能觸摸屏，精度高；有效改善靶面電荷積累現(xiàn)象，減少濺射靶表面的打火次數(shù)；膜層致密、光潔度較好；具有效率高、運行穩(wěn)定等優(yōu)點。以下是電源的一些參數(shù)，可以幫助我們更好清晰的認識這款電源。
單極性脈沖磁控濺射電源 研發(fā)成功后第一時間可以給到客戶去使用，經(jīng)過不同客戶使用反饋，相比直流磁控濺射電源這款電源在功能和效果上的確是有了大幅度的提高，得到了廣大客戶的一致認可，期待這款電源帶來的不僅僅是福音，也可以在您的工作生產(chǎn)中發(fā)揮應用的作用，快快聯(lián)系我們?nèi)ピ囈幌挛覀冞@一款電源，保證會有意想不到的驚喜等著您。
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