前面已經(jīng)講解了離子鍍膜技術的兩個特點，今天來說說離子鍍膜技術的第三個特點是在鍍膜過程中伴有發(fā)光的現(xiàn)象，因為中頻磁控濺射電源等鍍膜電源工作電離了以后離子最外層缺失了電子，是處于不穩(wěn)定的高能狀態(tài)，當離子遇到了電子以后，它要捕捉到電子，把他填補到缺失的電子位置上，使自己變成穩(wěn)定的狀態(tài)，但這個時候要放出能量來，放出電離以后吸收的能量，能量是以光量子的形態(tài)放出的，也就是說要有發(fā)光現(xiàn)象，我們叫復合發(fā)光。離子鍍膜技術是在各種氣體放電中進行的，也就有電離過程和復合過程，所以離子鍍膜過程會伴有發(fā)光現(xiàn)象。這個動畫片是前面看到的，氬原子被電離之后的氬離子，最外層軌道缺失電子，所以當它遇到電子之后，這個電子就填補了電子的缺位放出光來。

離子鍍膜技術是在各種氣體放電中進行的，無論是氣態(tài)物質源還是固態(tài)物質源，他們都可以在輝光放電中進行也可以在弧光放電中進行。輝光放電型離子鍍膜技術有直流輝光放電離子鍍膜技.中頻放電離子鍍膜技術，射頻放電離子鍍膜技術。在弧光放電類型中，有熱弧光放電離子鍍膜技術，冷陰極弧光放電離子鍍膜技術/等離子炬電弧鍍膜技術，各種離子鍍膜技術都伴隨有發(fā)光現(xiàn)象。

凡是在氣體放電等離子體中進行的鍍膜技術都是離子鍍膜技術，離子鍍膜膜層的粒子能量要高普通鍍膜技術，離子鍍膜技術工藝的參數(shù)多，調整離子鍍工藝參數(shù)可以獲得各種功能薄膜的膜層，因為離子鍍是在放電中進行的，獲得了由離子和電子組成的等離子體，他們可以受電廠和磁場的控制，所以離子鍍的發(fā)展是施加了各種電場磁場作用，充分發(fā)揮等離子體在鍍膜中的作用，離子鍍膜技術是在真空中進行的，他利用的是等離子體的能量，所以他是高效/節(jié)能/無污染的綠色環(huán)保技術。

為了滿足市場的各種需求，英能公司研發(fā)了各種適應各種真空鍍膜領域的電源來滿足消費者！

有提高工作效率和改善色差的中頻磁控濺射電源；

有提高產(chǎn)品亮度和穩(wěn)定性的直流磁控濺射電源；

有專門針對打火問題嚴重能明顯得到改善的雙極偏壓脈沖電源；

聯(lián)系電話：18025476062（微信同號）